التحسين المستمر لمتطلبات جودة المنتج: يمكن إزالة الجسيمات الأصغر حجمًا لتلبية متطلبات الإنتاج بكميات كبيرة. تلبية طلب السوق على التسليم في الموعد المحدد لمجموعة متنوعة من منتجات السبائك: ملائمة للتحويل السريع للسبائك ومتطلبات مساحة أرضية منخفضة. خفض التكاليف: حجم منخفض، وفقدان معدني ضئيل. يُعتبر ترشيح CFF للمعدن المنصهر أكثر طرق الترشيح واعدةً التي يمكنها تلبية المتطلبات المذكورة أعلاه في آن واحد.
يواجه قسم الصهر والصب متطلبات متزايدة فيما يتعلق بالمرونة. والسبب في ذلك هو تقليل استنزاف أموال المخزون، وتسليم المنتجات للعملاء في الوقت المحدد، وتجهيز الدفعات في وقت أقصر. ويجب على ورش الصب المستخدمة في الإنتاج الضخم طويل الأمد إعادة النظر في تسلسل جدولة الإنتاج للحفاظ على الجودة العالية والتكلفة المنخفضة. وقد أصبح شطف المعدات أحد العوامل الرئيسية المساهمة في التكلفة، حيث يتعين ضمان جودة عالية للمعدات مع بقايا معدنية قليلة. ومن المتوقع أن تزداد متطلبات المرونة بشكل أكبر في المستقبل.
الهدف من التطوير المستقبلي لتقنية ترشيح CFF للمعادن المنصهرة: إزالة الجسيمات الأكثر دقة، وتحقيق انخفاض معقول في الضغط، وتقليل فقدان المعادن إلى أدنى حد، وزيادة كفاءة الترشيح، وتسهيل عملية التشغيل.
الـ مرشح رغوي خزفي يمكن أن تعمل اللوحة في وضع الترشيح ذي الطبقة العميقة، ويُشترط استخدام لوحة ترشيح ذات مسام دقيقة لإزالة الشوائب الصغيرة. ويتمثل التحدي الرئيسي في تشغيل صندوق الترشيح.
التحدي الرئيسي هو بدء تشغيل هذه صناديق الترشيح CFF, ، أي عن طريق ترطيب كامل مساحة سطح لوحة الترشيح، بحيث يكون تدفق المعدن مماثلاً لما هو معتاد في مرشحات CFF التجارية التي تتراوح كثافتها بين 10 و80 PPI. والأكثر استخدامًا هو 20-40 PPI، ويُستخدم في مسابك الصناعة لتحقيق معدل الصب المتوقع وأدنى كفاءة ترشيح مقبولة. يتميز المرشح الذي يتراوح نطاقه بين 10 و20 PPI بضعف احتباس الجسيمات، وغالبًا ما يُستخدم لتصفية الشوائب الناتجة أثناء الصهر والترسيب والنقل، والجسيمات الكبيرة الناتجة أثناء أكسدة السطح. أما المرشحات عالية الكثافة ذات المسام التي تتراوح بين 60 و80 PPI، فتُستخدم فقط في التطبيقات التي تتطلب جودة عالية، مثل منتجات البثق والشرائط ذات المتطلبات الصارمة للسطح.
يجب تمرير مادة الترشيح بشكل متساوٍ. فكلما صغرت الفتحة، ارتفع ارتفاع الضغط الابتدائي. علاوة على ذلك، فإن ارتفاع الضغط الابتدائي المطلوب أعلى من أقصى مستوى متاح للمعدن. وبالإضافة إلى ذلك، يجب أن يقوم المرشح بتصريف الألومنيوم المنصهر بالجاذبية في نهاية كل عملية صب، مما يعني أنه من المستحيل خفض موضع لوحة المرشح إلى ما دون مستوى معين.